为什么真空涂层？

非导电样品通常具有从采样表面上收集的充电效果导致SEM成像的问题。虽然许多SEM系统具有“低真空”或“电荷减少”模式，可以克服这个问题，但该模式通常具有依赖于样本的放大率和图像质量的限制。在“低真空”模式下收集的图像通常具有平坦的对比度，从而导致不吸烟的图像。

对于最佳成像，通过使用施加纳米薄导电金属层的溅射涂布机通常涂覆非导电样品。即使导电样品也受益于金，铂或金/钯等高电子发射材料的溅射涂层。该涂层允许在较高光束能中成像，以获得最高分辨率和放大率，而不涉及电子电荷效应或对敏感样品的梁损伤。

由于大多数EDS软件允许定义涂层金属，因此仍然可以在涂覆的样品上进行EDS分析，因此在分析期间被忽略。选择不存在于样品中的金属涂层型。或者，对于最精确的EDS分析，可以使用碳涂布机来产生X射线透明导电涂层。碳涂层在树脂安装抛光样品的矿物学分析中流行，滑动安装抛光薄片。

我们为样品涂层提供多种选择，具有金属，碳或两者。经济SPT-20.涂布机是一个理想的入门级涂布机，最适合平面样本。更先进桌子串联涂布器可在低真空型号和高真空型号中提供。由于真空水平在所得到的晶粒尺寸中发挥作用，因此高真空涂布器主要仅使用现场发射或Fe-SEM和TEM，其产生图像通常高于100,000倍的放大率，其中存在涂层颗粒的伪影。当涂布氧化金属如铬和其他一些时，也建议使用高真空涂层。

为了进一步阅读样品制备和溅射，我们建议Echlin's“SEM和EDS的样品准备手册“。还提供了一本书的在线版本这里。

热蒸发

我们提供多种选择，用于使用热蒸发或溅射或组合使用热蒸发或溅射来将薄膜应用于样品。虽然溅射涂层使用纯金属的“靶”，但热蒸发器可以具有多种源，使其可以在所得薄膜中产生不同金属的合金。同样，通过涂布器控制面板，可以使用蒸发或溅射来进行序贯涂层，这取决于涂层构型。

热蒸发是物理气相沉积（PVD）的方法，并且通常使用电阻热源在真空环境中蒸发固体材料以形成薄膜。涂层材料通常包含在具有能够高于蒸发材料的温度的材料制成的“船”，“篮子”或“线圈”中。用热蒸发技术应用的材料可以是包括金属和非金属的纯原子元素，或者可以是诸如氧化物和氮化物的分子。将材料在高真空室中加热，直到产生蒸汽压力，允许蒸发的材料遍历真空室并涂覆基板

为了进一步阅读热蒸发，用于沉积薄膜和涂层，可以在此处提供非常好的已发表作品摘要科学直接。