CP-8000+离子研磨横截面抛光机

用于SEM样品制备的CP-8000+离子研磨横截面抛光机使用氩气离子束轻轻地从样品表面去除材料-字面上的原子一次。由此产生的原子级优化效果再好不过了。在对较硬材料进行机械抛光或对生物及其他软材料进行切片或冷冻断裂的最后一步后,使用离子磨横截面抛光机。

典型的应用包括半导体和电子元件的临界截面分析,如Via 's,焊点,层粘接和脱层检测,以及其他传统机械研磨和抛光容易变形或在硬到软的界面上涂抹较软层的情况。

横截面或平面离子铣削也可以与粉末进行精细切片,以看到粉末的内部结构在制药和其他材料科学应用。

平磨用于对比和增强抛光样品的晶粒结构,如用于EBSD分析的冶金支架。

CP-8000使用简单,比市场上的传统产品便宜得多。狗万体育网内部数字显微镜用于调整样品和掩模的位置以及光束对准。7″液晶触摸屏控制面板,可存储多个“食谱”,用于不同类型的样品准备。它也使操作简单和直接。维护CP-8000+横截面抛光机是简单和方便的用户。

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硬件

CP-8000截面抛光机规格:

  1. 氩离子研磨机:光束直径500 μm
  2. 离子束能量:2kV到8kV
  3. 铣削速度500 μm/hr (8kV硅片)
  4. 最大样本尺寸:20(w) x9 (d) x10 (h) mm
  5. 平面或平面铣削(倾斜范围55°至80°)
  6. 舞台摆动从0°到35°可调
  7. 热敏样品的光束开/关循环
  8. 触摸面板控制和显示
  9. 数字显微镜可在铣削过程中查看样品(8X, 16X, 32X)
  10. 通过数字显微镜对光束和掩模进行校准
  11. 包括涡轮分子真空泵
  12. 粗加工真空泵包括在内
  13. 氩气控制采用质量流量控制
  14. 620mm(宽)x 370mm(深)x 280mm(高)
力量XFlash EDS

离子抛光样品的示例图像

5000x和30000x纳米涂层粉末(BSE)

纳米粒子离子研磨截面
纳米粒子离子研磨截面

2000 x和5000 x多层材料(SE):

离子研磨多层截面
离子研磨多层截面
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