为什么要真空涂层？
非导电样品通常来自收集的电子对样品表面的充电效果，从而导致SEM成像问题。尽管许多SEM系统具有可以克服此问题的“低真空”或“减少电荷”模式，但该模式通常在样本依赖性的放大倍率和图像质量方面存在限制。在“低真空”模式中收集的图像通常具有平坦的对比度，从而产生了不吸引人的图像。
对于最佳成像，通常使用施加纳米薄的导电金属层的溅射夹来覆盖非导电样品。甚至导电样品也受益于高度电子发射材料（如金，铂或金/钯）的溅射层。这种涂层允许在较高的光束能量下进行成像获得最高分辨率和放大倍率，而不必担心电子电荷效应或对敏感样品的束损伤。
由于大多数EDS软件允许定义涂层金属，因此在涂层样品上仍然可以进行EDS分析，因此在分析过程中被忽略。选择了样品中不存在的金属涂料类型。或者，对于最精确的EDS分析，碳夹具可用于产生X射线透明导电涂层。碳涂料在树脂安装的抛光样品和幻灯片安装的抛光薄片的矿物学分析中很受欢迎。
我们为金属，碳或两者兼而有多种选择用于样品涂层。经济SPT-20Coater是理想的入门级座椅，最适合扁平样品。更高级桌子串联涂料机在低真空型号和高真空型号上都可用。由于真空水平在所得的晶粒尺寸中起作用，因此高真空涂料器主要仅使用场发射或Fe-Sem和TEM，而TEM和TEM产生的图像通常超过100,000倍放大，其中存在潜在的观察涂层颗粒的伪像。当涂有氧化金属等氧化金属等涂层时，也建议使用高真空涂层。
为了进一步阅读有关样品制备和溅射涂层的进一步阅读，我们建议Echlin的“SEM和EDS样品准备手册“。这本书的在线版本也可用这里。
热蒸发
我们提供多种选择，用于将薄膜应用于使用热蒸发或溅射或组合的样品。尽管溅射涂层使用纯金属的“目标”，但热蒸发器可以具有多种来源，使其可以在所得膜中创建不同金属的合金。同样，通过涂料器控制面板，可以使用蒸发或溅射来执行顺序涂层，具体取决于涂料者的配置。
热蒸发是一种物理蒸气沉积（PVD）的方法，通常使用电阻热源在真空环境中蒸发固体物质以形成薄膜。涂层通常包含在“船”，“篮子”或“线圈”中，该材料由能够承受高于蒸发材料的温度的材料制成。使用热蒸发技术应用的材料可以是纯原子元素，包括金属和非金属，也可以是分子，例如氧化物和氮化物。将材料在高真空室中加热，直到产生蒸气压，使蒸发的材料穿越真空室并涂上基材
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